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半導體廢水處理方法（半導體污水處理流程）

標簽：添加時間：2022-10-15 瀏覽次數:3086

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　　半導體行業的迅速發展，有利有弊，為什么這么說呢?電子市場的擴容對于工業、企業發展是一種驅動力，推動了經濟社會的發展，但制造行業擴大，加工廠增加，電子半導體廢水排量增加，半導體廢水并不是隨意可以排放的，那么半導體廢水處理方法有哪些，半導體污水處理流程是怎樣的呢，我們一起來看一下。

　　針對電子半導體污水處理方法有很多，生化法、物理法、物化法、化學法等等，都可以根據半導體廢水水質情況進行處理，但吸附法、冷凍法、離子交換樹脂法、超濾法、電滲析法，在進行廢水處理時，相對成本較高，廢水去除達標排放率相對比較低。

　　電子半導體生產工藝復雜，工藝步驟高達300余步，同時會使用多種化學試劑以及特殊氣體，主要生產工序包括：硅片清洗、氧化、擴散、化學氣相沉積、光刻、去膠、干法刻蝕、濕法刻蝕、離子注入、金屬化鍍膜、化學機械拋光等等。

　　生產工序不同，所產生的電子半導體生產廢水也略有差異，對于產生的電鍍廢水、含氟廢水、重金屬廢水等，康景輝針對電子半導體廢水產生途徑以及根據半導體廢水的回收利用，選擇采用膜回收+蒸發結晶工藝。

　　對于半導體生產過程中，其他工序中產生的一些有機廢水、沖洗廢水，其含鹽量或者含重金屬物質偏低時，可以考慮采用化學藥劑、生化法或者沉淀法等一些簡單的處理方式。

　　實際上每一種半導體廢水處理方法，都有其與眾不同的優點，大伙兒需要依據自身的水質情況，挑選更為合適自身的解決辦法。

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